國內某頭部半導體矽片企業，專注于半導體矽片的研發、生産與銷售，産品覆蓋4-12英寸酸腐片、抛光片、外延片等關鍵半導體材料，是集成電路、分立器件及傳感器等半導體産品制造的核心材料供應商，在國內半導體矽片産業鏈中占據重要地位。
半導體矽片作爲半導體産業鏈的基礎材料，生産工藝流程複雜，易産生裂片、桔皮、晶孔等多種複雜缺陷。目前多數矽片工廠依賴人工目檢進行缺陷檢測，但隨著産能提升與工藝要求升級，人工檢測的弊端日益凸顯:
標准不一，效率低下:人工判定標准不統一，導致檢測效率低下，難以匹配高産能需求;
人力依賴，成本高昂:質檢人員流動性大，培訓周期長達3-6個月，人力成本居高不下;
精度不足，良率受限:人眼最小可識別缺陷約5μm，無法滿足0.3μm級的高精度工藝要求;
數據缺失，難以追溯:無系統化缺陷記錄，曆史數據無法追溯，難以支撐質量分析;
缺陷繁多，根因難定:缺陷種類多（超20種常見類型），人工統計難以量化數據，無法定位缺陷根因;
實時監控難:缺乏實時數據反饋，無法及時鎖定工藝異常，易導致批量質量問題。
缺陷示意圖
針對半導體矽片生産工藝特點及高精度檢測要求，格創東智推出ALIOTH系列S800F自動目檢儀，專爲外延片、抛光片的缺陷檢測設計，通過CV（計算機視覺）+AI複合算法實現缺陷的自動化檢測、分類與統計，全面提升質量控制能力。
01高精度外觀缺陷檢測
采用高分辨率機器視覺系統，實現0.3μm級檢測精度，精准定位並抓取表面缺陷;
獨創光學系統設計（多光源組合+偏振光調節），大幅提升滑移線、桔皮、燒結等疑難缺陷的檢出率(較傳統設備提升30%以上);
支持缺陷自動分類（覆蓋20+常見類型），分類准確率達95%以上。
02全流程數據統計與分析
實時統計缺陷分類占比、位置分布，生成可視化報告，快速定位工藝改善方向;
批量分析缺陷變化趨勢，追溯缺陷産生的設備/工藝環節，實時監控設備性能波動;
結合生産數據進行缺陷根因分析，爲工藝優化（如抛光參數調整、清洗流程改進）提供數據支撐。
03自適應缺陷識別能力
通過自適應成像配置（亮度/焦距自動調節）及多模式成像(明場/暗場/熒光)，適配不同規格矽片(4-12英寸);
搭載無監督遷移學習AI算法，無需人工標注即可自動識別新型缺陷，縮短新缺陷檢測響應時間（從傳統的2周縮短至1天）;
聯動設備控制系統，當缺陷率超過阈值時自動報警，鎖定工藝異常。
通過部署ALIOTH-S800F自動目檢儀，客戶實現了出貨質檢全流程自動化，替代傳統人工目檢，在效率、精度、良率等方面取得顯著提升:
人力成本大幅降低:單條産線質檢人力投入降低60%;設備檢測速度達30秒/片，支持24小時不間斷運行，滿足高産能需求。
檢測精度與一致性提升:缺陷檢測整體准確率達99%，其中硬傷類缺陷（如崩邊、裂片）檢出率99.9%，程度損傷類缺陷(如抛光痕、滑移線)檢出率95%以上，統一檢測標准，消除人工主觀誤差。
出貨良率顯著改善:通過缺陷根因分析優化工藝（如調整抛光壓力、改進清洗液配比），出貨良率明顯提升，年減少不良損失超千萬元。
數據化質量管理體系建成:實現缺陷數據全留檔、可追溯，累計存儲100萬+片矽片缺陷數據，爲工藝持續優化提供堅實支撐。
（推廣）